陽極氧化線電解液中的主要有害雜質(zhì)及解決方法？
陽極氧化線電解液中的主要有害雜質(zhì)有以下幾種：
1、鋁離子。電解液中鋁離子的過多積累會引起氧化膜層出現(xiàn)自斑或霧狀，但在通常情況下這種現(xiàn)象較為少見，因為Al3+與CrO42-化合會生成鉻酸鋁和堿式鉻酸鋁，沉入槽底。
2、三價鉻。在陽極氧化過程中由于鋁的溶解，電解液中鉻酸鋁[Al2(Cr04)3]及堿式鉻酸鋁[A1(0H)2Cr04]含量不斷增加，三價鉻含量也會不斷增加。
三價鉻積累的另一原因是陰、陽極面積搭配不當，陽極面積過小、陰極面積過大、電解過程中陰極上的還原能力超過陽極上的氧化能力。同時，也與電解液中混入有機質(zhì)而引起六價鉻還原有關(guān)。三價鉻質(zhì)量濃度不可超過0．2g／L，超過此值時成膜速度會受到影響，膜層厚度降低，電解液的顏色也會由淺變深，由棕紅色變?yōu)樽睾谏Ｑ趸影档瓱o光，抗蝕能力明顯降低。
避免三價鉻的過快積累，要注意陰、陽極面積比例，在正常情況下，陰、陽極面積之比以1：(3～5)較為合適。因此，如果以槽體作為陰極，則對槽體應(yīng)采取部分屏蔽，以減少陰極陽極面積之比，以阻止三價鉻的過快積累。
3、硫酸根。硫酸根主要由鉻酐中帶人，工業(yè)鉻酐通常含有0．4％左右的硫酸。硬水也是硫酸根來源之一，硬水中含有硫酸鈣、硫酸鎂等成分。故在工藝過程中盡可能用去離子水或蒸餾水配制。
陽極氧化電解液隨著硫酸根濃度的不斷上升，六價鉻在陰極上還原為三價鉻的速度會加快，鉻酸消耗增加。此時有可能出現(xiàn)因硫酸根含量過高引起的透明膜層和三價鉻過高引起
4、中提到過的質(zhì)量影響。
為避免電解液中因硫酸根積累而影響氧化膜質(zhì)量，建議每次補充鉻酐時同時添加適量碳酸鋇或氫氧化鋇，使混入的硫酸根得以沉淀除去。
5、氯離子。氯離子主要來自自來水，尤其是汲取江、河水為水源的南方自來水中含有較多的漂白粉，氯離子含量相對較高。當陽極氧化電解液中氯離子濃度超過0．2g／L時，對氧化膜層的質(zhì)量會產(chǎn)生影響，輕者出現(xiàn)粗糙，重者引起腐蝕。電流、電壓將會出現(xiàn)異狀，電流密度升高，電壓都上不去。